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开云kaiyun中国官方网站并SiC Drift层内注入造成一层P区;S200-kaiyun在线登录网址
发布日期:2024-12-10 06:49    点击次数:75

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金融界2024年11月28日音信,国度学问产权局信息浮现,扬州扬杰电子科技股份有限公司恳求一项名为“一种坚固短路特色的SiC晶体管及制备要领”的专利,公开号CN 119028823 A,恳求日历为2024年9月。

专利提要浮现,一种坚固短路特色的SiC晶体管及制备要领。波及半导体时代领域。包括如下要领:S100,在SiC Sub层的顶面通过外延千里积造成SiC Drift层,并SiC Drift层内注入造成一层P区;S200,在SiC Drift层的顶面外延千里积造成N区,并在N区内挨次造成Pwell区和NP区,通过高温离子退火使注入区激活造成;S300,在NP区的顶面向下刻蚀造成沟槽;S400,在沟槽内造成栅氧化层;S500,在沟槽里面通过多晶硅千里积神气造成Poly层;S600,在栅氧化层和Poly层顶面造成约束介质层;S700,在NP区的顶面通过Ni金属溅射后快速热退火造成正面欧姆战斗合金层;S800,在器件最上方通过Ti和AlCu金属溅射造成正面电极金属层。本发明幸免沟谈底部拐角栅氧化层的提前击穿失效,进步了器件的使用可靠性。

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沟槽栅氧化层NP区SiC晶体管发布于:北京市

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